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簡要描述：VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動(dòng),同時(shí)配備有去離子水淸洗和氮?dú)獯蹈晒δ?采用高精度伺服電機(jī)控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作，全不銹鋼機(jī)柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計(jì)合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間,自動(dòng)控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2021-12-01訪 問 量：3508詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |
VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動(dòng),同時(shí)配備有去離子水淸洗和氮?dú)獯蹈晒δ?采用高精度伺服電機(jī)控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作，全不銹鋼機(jī)柜,耐腐蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計(jì)合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間,自動(dòng)控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。
1、不銹鋼半柜式設(shè)計(jì)，觸摸屏操作
2、透明觀察窗，帶排廢和抽風(fēng)功能
3、可移動(dòng)式直線導(dǎo)軌清洗，行程可定制
4、最多可配備四路清洗或氮?dú)獯蹈上到y(tǒng)
5、可處理基片尺寸上限為8寸晶圓，向下兼容
6、更大尺寸可定制
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-200-CE半柜式清洗機(jī) | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-200-CE | |
| 主要參數(shù) | 1、旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)范圍：20-10000rpm 2、加速度可調(diào)范圍：0-50000rpm/s 3、標(biāo)配直線導(dǎo)軌行程：100mm；移動(dòng)速度上限:100mm/s 4、標(biāo)配兩路噴液系統(tǒng)，扇形或柱形噴嘴可選 5、標(biāo)配10L不銹鋼壓力桶兩只，其它規(guī)格可選 6、清洗液或氮?dú)饧訙叵到y(tǒng)可選配 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：940mm(長)×800mm(寬)×1100mm（高） | |
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