產(chǎn)品型號

  高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV

主要特點

  1、雙層殼體，配有風(fēng)冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。

  2、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高反射率和保護爐膛潔凈度。

  3、采用PID控制器 ，可以設(shè)置30段升降溫程序。

  4、質(zhì)量流量系統(tǒng)采用316不銹鋼制作而成。

  5、已通過CE認(rèn)證。

技術(shù)參數(shù)

  管式爐

  1、電源：AC 220V   50/60Hz

  2、石英管：外徑Φ80mm，內(nèi)徑Φ75mm，長1000mm

  3、加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲（表面涂有氧化鋯）

  4、加熱區(qū)域：440mm

  5、恒溫區(qū)域：150mm

  6、工作溫度：zui高1200℃，連續(xù)工作1100℃

  7、zui大升降溫速率：20℃/min

  8、控溫精度：±1℃

  9、熱電偶：K型

  高真空機組

  1、殼體：600mm×600mm×700mm，zui大承重275kg

  2、真空泵：德國Pfeiffer真空泵

  3、顯示屏：LCD數(shù)字顯示

  4、抽氣速率：N₂-33L/s，He-39L/s，H₂-32L/s

  5、工作范圍：1000mtorr-10^-7mtorr

  6、極限：10^-8mtorr（無泄漏）

  質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)

  1、電源：單相AC208-240V  50/60Hz

  2、功率：18W

  3、尺寸：600mm×600mm×700mm

  4、混氣箱：Φ80mm×120mm